黑科技进修手册_作者:木兮娘(252)

  “好!”老总激动得拍桌。

  科大校长办公室里,校长偷偷搜索国家专利申请官网,输入关键字果然看到了想看的专利申请,13.5nm光源系统设备技术被攻破,发明者标注:盛明安。

  后面还跟着几个人,但是对于校长来说不重要,重点突出对象是盛明安,科大的学生。

  校长心想之后媒体大肆报道,他们科大该用什么姿势站c位。

  科大教授办公室,朱教授、潘教授等人凑在一张书桌,电脑打开国家知识产权局网站搜索:“老朱,你别老蹬我!”

  “是你太占地方……出来了?13.5nm哈哈哈哈……果然比asml的14nm光源系统设备还精确0.5nm!”

  “看来光学这门学科,盛明安掌握得很好,普通难题难不倒他,试卷难度还可以再提升一点的嘛。”

  “你说的没错,我看他凝聚态物理掌握得也不错,难度还可以再升一点。”

  “跟隔壁的说一下,我看陈惊答题速度也很快,难度也是可以再提升的。”

  “我觉得你说的对。”、“可以。”、“不错的提议。”

  ……七嘴八舌下定论后,他们当真找来隔壁的教授重新为陈惊和盛明安出毕业考题,旁边的助手惊恐看着一脸兴奋的导师们。

  就之前的题目居然好意思说难度是普通级别?!

  这群人到底是什么样的魔鬼?!

  国内某个半导体实验室的研究生,接下导师布置的科研课题,被某个关键技术节点难倒,于是上了微电子发烧友论坛发帖询问。

  有人指点他:【半导体技术杂志。知网。sci。csdn。百度。】

  研究生扫一眼他的回答,翻了白眼,一看就是半桶水叮当响,居然百度的答案都出来了。

  百度要真能搜索到答案,他就把头剖下来送他当球踢。

  【兄弟,别捣乱,我认真求问的。】

  那人也很诚恳:【兄弟,别捣乱,你看你是认真问的吗?】

  研究生抬头看他标题,【求问14nm极紫外光刻机光源系统优化怎么实现?】。

  就,没毛病啊。

  【兄弟,你真觉得自己的问题没毛病?asml的14nm euv刚官宣没多久,你觉得你能在国内不知名论坛里求到答案?】

  “……”

  研究生嘀咕一句:“说不定呢。”

  研究生还真傻逼兮兮的跑去百度了。

  回车键一按,连他都忍不住捧腹大笑,他果然是被导师布置的课题整神经了,居然跑去百度!

  但凡稍微深入点的学术问题都绝对不可能百度出来,何况是根本没有人能够回答的光源优化!

  研究生知道求不到答案,他就是被这问题烦了将近一个月,烦到发疯罢了。

  努力平心静气的研究生正要x掉网页,抬头一看却瞥见底下有一行字,猛地转回去看:“13.5nm光源系统设备技术被攻破?专利申请?卧槽槽槽!!开玩笑的吧?”

  他赶紧点开网页,发现是天眼察,专利发明者第一个名字是……盛明安?

  “盛、盛神?”

  专利研究单位是蓝河科技,不是什么光机所、光电所,而是名不见经传的科技公司!

  研究生赶紧登陆国知网搜索关键字,真的看到了13.5nm光源系统设备技术被攻破的专利申请!

  “卧槽……比asml还高0.5nm,盛神牛逼了。”

  研究生回头看向电子发烧友论坛,露出空虚的笑容,拿起手机,重新开贴、编辑文字,上传国知网图片,发送。

  然后面带微笑,安静等待即将炸锅的网络。

  ***

  约定的十日之期很快到来,几个半导体龙头企业里的实权人物联系曹书记,询问他的解决之法是什么。

  曹书记含蓄的邀请他们参加下周的华国国际半导体技术大会。

  众人:“??”

  曹书记:“解救鸿芯骗局,使津市半导体产业起死回生的办法就在国际半导体技术大会!”

  众人都不是蠢货,很快通过联想猜出技术大会很可能会颁布某项足以将津市半导体产业拉出泥淖的技术。

  但那该是什么样的技术才能做到?除非是

  堪比euv的高阶光刻机!

  ***

  六月下旬,华国国际半导体技术大会(cstic)在申市国际会议中心召开。

  华国国际半导体技术大会是华国电子商会(cecc)和国际半导体设备与材料协会(semi)共同合作举办的,华国最全面的、最大的一个半导体技术大会,会议讨论内容涵盖半导体设备和技术的方方面面,受邀人员有国内外知名的半导体技术人才和专家。